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		<title>Sicherheit on Global Infrared Heating Systems</title>
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		<description>Recent content in Sicherheit on Global Infrared Heating Systems</description>
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				<title>Sicherheitsabstand für das Erwärmen der Wafer</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-global.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;Sicherheitsabstand für das Erwärmen der Wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Auf der Lithografieebene ist der Abstand zwischen der Lampe und dem &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;Wafer&lt;/a&gt; keine unbedeutende Größe – es handelt sich dabei um einen Parameter, den man genau einstellen muss. Ist der Abstand zu gering, kommt es zu einem thermischen Überlastungszustand, zur Ausgasung des Fotolacks sowie zu Problemen durch Partikelentstehung. Ist der Abstand hingegen zu groß, wird die gewünschte Qualität nicht erreicht – es sind längere Bearbeitungszeiten nötig, und die Effizienz nimmt ab. Unsere Heizmodule werden entsprechend diesem Abstand konstruiert; dabei wird dieser Abstand als wichtiger Prozesskontrollfaktor betrachtet.&lt;/p&gt;</description>
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