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		<title>Labor on Global Infrared Heating Systems</title>
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				<title>Hochtemperaturofen für das Fab Labor</title>
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				<pubDate>Sun, 07 Jun 2026 04:02:14 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-global.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Hochtemperaturofen für das Fab Labor&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Auf dem Fertigungsboden ist das Backen von Photoresist nicht optional – es ist das thermische Budget. Eine Drift von 2°C beim Softbake oder Hardbake zerstört die Kontrolle der kritischen Maße und zieht Lithografie-Defekte nach sich. Unser Hochtemperatur-Fab-Lab-Ofen wurde um Infrarot-Heizung aufgebaut, abgestimmt auf thermische Homogenität im Submillimeterbereich. Der Gewinn sind reproduzierbare Temperaturprofile über die Waferfläche, Charge für Charge.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Technisch relevante Aspekte&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Wir verwenden Nahinfrarot (NIR)-Heizung, um die Wärme gezielt an die Prozessoberfläche zu bringen – so verhindern wir thermische Verzögerungen und kalte Stellen als versteckte Variablen. Das sorgt für ein stabiles, reproduzierbares thermisches Feld und ermöglicht engere Prozessfenster. Die Reinraum-Kompatibilität der Klassen 1–100 ist im Design verankert: Luftstromwege, Dichtungen und Kammermaterialien werden so ausgewählt, dass Partikelentstehung auf ein Minimum reduziert wird. Im Produktionsalltag führt das zu weniger Ausschuss und geringerer Nacharbeit.&lt;/p&gt;</description>
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