Hochreiner Quarzheizelement

Wed, 01 Jul 2026 13:15:42 +0800

Bei der 300-mm-Produktionslinie reicht bereits eine leichte Veränderung der Temperatur – auch nur um ein winziges Grad – aus, damit die Kontrolle der kritischen Abmessungen nicht mehr gewährleistet werden kann. Der Heiz element muss daher stets sauber bleiben und die vorgegebene Temperatur konstant halten – und das von Charge zu Charge.

Was wirklich wichtig ist: Wir verwenden hochreinen Quarz zur Herstellung des Heizelements, um Ausgasungen sowie metallische Verunreinigungen so weit wie möglich zu minimieren. Das Quarzkörper ist so gestaltet, dass er eine schnelle und stabile Reaktion bietet sowie eine gleichmäßige Wärmeverteilung gewährleistet – dadurch bleibt das Prozessfenster eng begrenzt.

Sicherheitsabstand für das Erwärmen der Wafer

Wed, 17 Jun 2026 16:12:38 +0800

Auf der Lithografieebene ist der Abstand zwischen der Lampe und dem Wafer keine unbedeutende Größe – es handelt sich dabei um einen Parameter, den man genau einstellen muss. Ist der Abstand zu gering, kommt es zu einem thermischen Überlastungszustand, zur Ausgasung des Fotolacks sowie zu Problemen durch Partikelentstehung. Ist der Abstand hingegen zu groß, wird die gewünschte Qualität nicht erreicht – es sind längere Bearbeitungszeiten nötig, und die Effizienz nimmt ab. Unsere Heizmodule werden entsprechend diesem Abstand konstruiert; dabei wird dieser Abstand als wichtiger Prozesskontrollfaktor betrachtet.

Heizen on Global Infrared Heating Systems

Hochreiner Quarzheizelement

Sicherheitsabstand für das Erwärmen der Wafer