Heizer für Chemiekabine von Fab

Fri, 19 Jun 2026 06:23:06 +0800

Auf der Fertigungsfläche kann bereits eine Abweichung von einem Grad bei der Erwärmung des Photoresists dazu führen, dass die Linienbreiten so stark beeinträchtigt werden, dass ganze Chargen als unbrauchbar gelten müssen. Die Heizgeräte in den Chemikalienkabinen dienen nicht nur dem Komfort – sie sind vielmehr Prozessinstrumente, die dafür sorgen, dass die Temperatur auf jedem Wafer konstant bleibt.

Was technisch wichtig ist:
Wir bauen diese Heizgeräte mit Kurzwellinfrarot-Elementen in einer Quarzkapsel. Dadurch wird eine schnelle Reaktionszeit sowie eine effektive Wärmeübertragung erreicht. Das Ziel ist es, eine Temperaturkonstanz auf Waferebene von ±0,1°C zu gewährleisten – und zwar über die gesamte Fläche des Substrats hinweg. Zudem soll die Temperaturstabilität auch dann erhalten bleiben, wenn der Wafer den Arbeitsplatz wechselt.

Chemisch on Global Infrared Heating Systems

Heizer für Chemiekabine von Fab