http://ir-heat-global.com/cs/tags/oxidace/ Recent content in Oxidace on Global Infrared Heating Systems Hugo cs Thu, 18 Jun 2026 04:36:37 +0800 http://ir-heat-global.com/cs/posts/wafer-oxidation-heating-element/ Thu, 18 Jun 2026 04:36:37 +0800 http://ir-heat-global.com/cs/posts/wafer-oxidation-heating-element/ <p><img src="http://ir-heat-global.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png" alt="Žhavicí prvek pro oxidaci waferu"></p> <p>V prostředí výroby závisí kvalita výsledku na přesnosti teplotní kontroly. Pokud se teplota během procesu zahřevu mění, dochází k rozptylu parametrů povrchu destičky. Chladné místo během oxidace? To způsobuje nestabilní oxid na povrchu destičky. Naše zařízení na ohřev destiček je navrženo právě tak, aby čelilo těmto problémům – protože tepelné parametry musí být pod kontrolou právě tam, kde je to důležité.</p> <p><strong>Co je technicky důležité</strong><br> Používáme krátkovlnné infračervené záření s rychle reagujícím kvartovým emitérem, jehož velikost odpovídá průměru destiček a rozměrům zařízení. Na celé ploše destičky zůstává teplota stabilní v rozmezí ±0,1 °C. Kontrola tempa zahřevu umožňuje udržení konzistentního profilu fotorezisty v každé várce. Kompatibilita s čistými prostory není jen sloveso – používáme materiály s minimální emisí plynů a geometrii, která vydrží i v prostředích třídy 1–100. Výkon zůstává stabilní po dobu více než 5 000 hodin, přičemž odchylky teploty zůstávají pod 5 %.</p>