http://ir-heat-global.com/bn/tags/%E0%A6%AB%E0%A7%8D%E0%A6%B2%E0%A6%BE%E0%A6%95%E0%A7%8D%E0%A6%B8/ Recent content in ফ্লাক্স on Global Infrared Heating Systems Hugo bn Thu, 02 Jul 2026 09:16:14 +0800 http://ir-heat-global.com/bn/posts/flux-evaporation-for-wafer-bump/ Thu, 02 Jul 2026 09:16:14 +0800 http://ir-heat-global.com/bn/posts/flux-evaporation-for-wafer-bump/ <p><img src="http://ir-heat-global.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png" alt="ওয়েফার বাম্পের জন্য ফ্লাক্স বাষ্পীভবন"></p> <p>বাম্পিং প্রক্রিয়ায়, ফ্লাক্সের অবশিষ্টাংশ কেবল দৃশ্যমান সমস্যা নয়; এটা উৎপাদন ক্ষমতাকে হ্রাস করে। ইভাপোরেশন জোনে যদি কোনো ঠান্ডা অঞ্চল থাকে, তাহলে ফ্লাক্সটি সম্পূর্ণভাবে অদূর হয় না। ফলে সোল্ডার বলগুলো ঠিকভাবে সারিবদ্ধ হয় না; রিফ্লো প্রক্রিয়াও বিঘ্নিত হয়। আমরা এই বাস্তবতার জন্যই ফ্লাক্স ইভাপোরেশন থার্মাল প্ল্যাটফর্ম তৈরি করেছি। এখানে থার্মাল বাজেট অপরিহার্য; প্রতিটি ওয়েফারকে বারবার প্রক্রিয়াজাত করতে হয়।</p> <p>আসলে গুরুত্বপূর্ণ বিষয়গুলো হলো: কোয়ার্টজ-হ্যালোজেন এমিটার থেকে আসা শর্ট-ওয়েভ ইনফ্রারেড রশ্মি ওয়েফারগুলোকে আঘাত করে; ক্লোজড-লুপ কন্ট্রোলের মাধ্যমে ২০০/৩০০ মিমি এলাকাজুড়ে তাপমাত্রা ±০.১°C এর মধ্যে বজায় থাকে। প্রতিক্রিয়ার সময় কয়েক সেকেন্ডেরও কম; ফলে রেসিপি অনুযায়ী প্রক্রিয়াটি সঠিকভাবে সম্পন্ন হয়। ক্লিনরুম ক্লাস ১–১০০ বজায় রাখতে কণা-নিয়ন্ত্রিত আর্কিটেকচার ব্যবহৃত হয়—কম গ্যাস নির্গমনকারী উপাদান, HEPA-ইন্টিগ্রেটেড প্লুমেন, এবং কোনো ফাটল ছাড়া মসৃণ পৃষ্ঠ। ৫,০০০+ প্রক্রিয়া ঘন্টার পরও ত্রুটির মাত্রা ≤০.২% থাকে। এছাড়া প্ল্যাটফর্মটিতে SECS/GEM ব্যবহৃত হয় লাইন-লেভেল ট্রেসেবিলিটি ও রেসিপি নিয়ন্ত্রণের জন্য।</p>