http://ir-heat-global.com/bn/tags/%E0%A6%A8%E0%A6%BF%E0%A6%B0%E0%A6%BE%E0%A6%AA%E0%A6%A4%E0%A7%8D%E0%A6%A4%E0%A6%BE/ Recent content in নিরাপত্তা on Global Infrared Heating Systems Hugo bn Wed, 17 Jun 2026 16:12:38 +0800 http://ir-heat-global.com/bn/posts/safety-distance-for-wafer-heating/ Wed, 17 Jun 2026 16:12:38 +0800 http://ir-heat-global.com/bn/posts/safety-distance-for-wafer-heating/ <p><img src="http://ir-heat-global.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png" alt="ওয়েফার উত্তপ্ত করার জন্য নিরাপদ দূরত্ব"></p> <p>লিথোগ্রাফি প্রক্রিয়ায়, ল্যাম্প ও ওয়েফারের মধ্যকার দূরত্বটি কোনো গৌণ বিষয় নয়; বরং এটা এমন একটি গুরুত্বপূর্ণ বিষয় যা সঠিকভাবে সামঞ্জস্য করা প্রয়োজন। যদি এই দূরত্বটি খুব কম হয়, তাহলে থার্মাল রানঅ্যাওয়ে, ফটোরেসিস্টের গ্যাস নির্গমন এবং কণাসংক্রান্ত সমস্যা দেখা দেয়। আবার, যদি এই দূরত্বটি খুব বেশি হয়, তাহলে পর্যাপ্ত শক্তি না থাকার কারণে প্রক্রিয়াটি ধীর হয়ে যায়, এবং সাইকেল টাইমও বেড়ে যায়। আমরা আমাদের হিটিং মডিউলগুলোকে এই দূরত্বের ভিত্তিতেই ডিজাইন করি; অর্থাৎ, এই দূরত্বটিকেই প্রক্রিয়া নিয়ন্ত্রণের জন্য গুরুত্বপূর্ণ বিষয় হিসেবে বিবেচনা করি।</p>