http://ir-heat-global.com/bn/tags/%E0%A6%85%E0%A6%95%E0%A7%8D%E0%A6%B8%E0%A6%BF%E0%A6%A1%E0%A7%87%E0%A6%B6%E0%A6%A8/ Recent content in অক্সিডেশন on Global Infrared Heating Systems Hugo bn Thu, 18 Jun 2026 04:36:37 +0800 http://ir-heat-global.com/bn/posts/wafer-oxidation-heating-element/ Thu, 18 Jun 2026 04:36:37 +0800 http://ir-heat-global.com/bn/posts/wafer-oxidation-heating-element/ <p><img src="http://ir-heat-global.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png" alt="ওয়েফার অক্সিডেশন হিটিং এলিমেন্ট"></p> <p>ফ্যাব ফ্লোরে, উৎপাদনের গুণমান ডিগ্রির ভিত্তিতে নির্ধারিত হয়। বেকিং তাপমাত্রা যদি পরিবর্তিত হয়, তাহলে ওয়্যাফারের আকারও পরিবর্তিত হয়ে যায়। অক্সিডেশন প্রক্রিয়ার সময় যদি কোনো ঠান্ডা অঞ্চল থাকে, তাহলে গেট অক্সাইড অস্থিতিশীল হয়ে যায়। আমরা এই সমস্যাগুলো মোকাবেলার জন্য উপযুক্ত হিটিং উপাদান ব্যবহার করি—কারণ থার্মাল বাজেটকে নিয়ন্ত্রণে রাখা খুবই গুরুত্বপূর্ণ।</p> <p><strong>প্রযুক্তিগতভাবে কী গুরুত্বপূর্ণ?</strong><br> আমরা দ্রুত-প্রতিক্রিয়াশীল কোয়ার্টজ এমিটার ব্যবহার করি; এর আকার ওয়্যাফারের ব্যাস ও টুলের আকারের সাথে সামঞ্জস্যপূর্ণ। ওয়্যাফারের সর্বত্র তাপমাত্রা ±0.1°C এর মধ্যে থাকে; ফটোরেজিস্টের প্রোফাইলও ধারাবাহিক থাকে। ক্লিনরুমের পরিবেশের জন্য আমরা অত্যন্ত কম গ্যাস নির্গমনকারী উপাদান ব্যবহার করি। ৫,০০০+ ঘন্টা ধরেও আউটপুট স্থিতিশীল থাকে; তাপমাত্রার পরিবর্তন ৫% এর নিচে থাকে।</p>