การลดปริมาณคาร์บอนในกระบวนการผลิตชิปเซมิคอนดักเตอร์ (โดยไม่ทำลายอุปกรณ์ของคุณ)
เมื่อต้องจัดการกับขั้นตอนการล้างชิปในกระบวนการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ คุณจำเป็นต้องหาจุดสมดุลที่เหมาะสม คุณต้องกำจัดความชื้นออกจากแผ่นวัตถุดิบให้เร็วที่สุด แต่ในขณะเดียวกันก็ไม่สามารถปล่อยให้มีสิ่งสกปรกเข้ามาได้เลย
เมื่อก่อน ผู้คนมักใช้วิธีการใช้ความร้อนแบบพัดลมเพื่อให้แห้ง แต่เราได้ค้นพบวิธีที่ดีกว่านั้น นั่นก็คือการใช้หลอดไฟอินฟราเรดที่ทนน้ำได้
ปัญหาเกี่ยวกับสภาพแวดล้อมที่มีความชื้นสูง
ขั้นตอนการล้างชิปนั้นส่งผลเสียต่ออุปกรณ์อย่างมาก เนื่องจากมีความชื้นสูงและไอระเหยของสารเคมี หลอดไฟธรรมดาจึงไม่สามารถทำงานได้อย่างมีประสิทธิภาพ
เพื่อป้องกันไม่ให้อุปกรณ์เสียหาย เราจึงใช้ฝาครอบที่ทำจากควอตซ์และระบบการปิดผนึกที่แน่นหนา เพื่อป้องกันความชื้นไม่ให้เข้าถึงอิเล็กโทรด นอกจากนี้ เรายังใช้หลอดไฟที่มีกำลังสูง เพราะจะช่วยให้แผ่นวัตถุดิบแห้งได้อย่างรวดเร็ว ยิ่งแผ่นวัตถุดิบอยู่ในสภาพนั้นนานเท่าไหร่ ก็ยิ่งทำให้ประสิทธิภาพการผลิตลดลงเท่านั้น
การจัดการกับปัญหาเรื่องความทนน้ำ
เมื่อเราพูดถึง “ความทนน้ำ” เราไม่ได้หมายถึงเสื้อกันฝน แต่หมายถึงอุปกรณ์ที่สามารถป้องกันไอน้ำและน้ำที่กระเด็นเข้ามาได้
แต่ก็มีปัญหาอยู่ เพราะควอตซ์จะขยายตัวเมื่ออุณหภูมิสูง หากอุปกรณ์ที่ใช้ยึดหลอดไฟมีความแน่นเกินไป หลอดไฟก็อาจแตกได้ในระหว่างกระบวนการให้ความร้อน เราจึงพยายามหาวิธีที่เหมาะสมเพื่อป้องกันปัญหานี้
การประหยัดพลังงาน
การเปลี่ยนจากการใช้เตาอบที่ใช้ลมอัดมาเป็นการใช้หลอดไฟอินฟราเรดนั้น ถือเป็นวิธีที่ดีมากสำหรับโลกของเรา
แทนที่จะเสียพลังงานไปกับการให้ความร้อนกับอากาศในห้อง หลอดไฟอินฟราเรดจะส่งพลังงานไปยังวัตถุดิบโดยตรง ซึ่งช่วยให้ประหยัดพลังงานได้มาก นอกจากนี้ ยังช่วยให้การผลิตเป็นไปอย่างมีประสิทธิภาพมากขึ้นอีกด้วย
ข้อควรระวัง
หลอดไฟอินฟราเรดจะปล่อยความร้อนออกมามาก หากระบบระบายความร้อนของเครื่องไม่ดีพอ ตัวเซ็นเซอร์ที่อยู่รอบๆ ก็อาจร้อนเกินไปได้
เพื่อให้ทุกอย่างเป็นไปอย่างราบรื่น เราแนะนำให้ใช้ระบบควบคุม PID ที่มีความแม่นยำ เพื่อให้สามารถควบคุมอุณหภูมิได้อย่างเหมาะสม โดยไม่ทำให้อุณหภูมิสูงเกินไป