ในโรงงานผลิตชิป แค่มีความชื้นเพียง 1 ไมครอนบนฟิล์มกั้นของแบตเตอรี่ ก็เพียงพอที่จะทำให้เกิดการสั้นโซ่ไฟฟ้า และทำให้ชุดแบตเตอรี่ทั้งชุดเสียหายได้ ดังนั้นจึงจำเป็นต้องรักษาสภาพแวดล้อมให้อยู่ในระดับ Class 100 และกระบวนการอบต้องมีความแม่นยำสูง เหมือนกับมาตรฐานการวัดค่าต่างๆ ไม่ใช่เพียงการประมาณค่าเท่านั้น เตาอบแบบปกติมักมีความคลาดเคลื่อน ทำให้ค่าการอบไม่แม่นยำ และจำนวนอนุภาคก็เพิ่มขึ้น นั่นไม่ใช่สิ่งที่สามารถยอมรับได้
สิ่งที่สำคัญทางเทคนิค เราได้ออกแบบเครื่องอบฟิล์มกั้นโดยอิงหลักการของอุตสาหกรรม semiconductors โดยพยายามรักษาอุณหภูมิให้สม่ำเสมอทั่วทั้งฟิล์ม ภายในช่วง ±0.1°C และใช้ความร้อนแบบ NIR เพื่อให้เกิดการอบแห้งอย่างรวดเร็ว โดยไม่ทำให้พื้นผิวของโพลิเมอร์เสียหาย ห้องอบนี้สามารถใช้ได้ในสภาพแวดล้อมระดับ Class 1 ถึง Class 100 โดยมีพื้นผิวที่เรียบเนียน และวัสดุที่ไม่ก่อให้เกิดอนุภาค ระบบควบคุมการอบแบบ Photoresist ช่วยให้ได้อัตราการระเหยที่แม่นยำ และขนาดของฟิล์มก็คงที่ สามารถใช้งานได้ 24/7 และระบบบำรุงรักษาแบบ Predictive Maintenance ช่วยให้ไม่มีเวลาหยุดทำงานโดยไม่คาดคิด และช่วยให้เวลาในการอบคงที่
เหตุผลที่เครื่องนี้มีประสิทธิภาพจริงๆ คุณไม่จำเป็นต้องใช้เทคโนโลยีที่ซับซ้อน แต่ต้องมีความแม่นยำสูง เครื่องอบนี้ช่วยรักษาอุณหภูมิให้คงที่ ทำให้การอบในแต่ละครั้งมีผลลัพธ์เหมือนกันเสมอ ความสม่ำเสมอที่สูงช่วยลดข้อบกพร่อง และเพิ่มอัตราการผลิต นอกจากนี้ ยังช่วยลดเวลาในการอบอีกด้วย การใช้พลังงานก็ลดลง เพราะความร้อนแบบ NIR จะถูกส่งไปยังฟิล์มโดยตรง ไม่ใช่ไปยังตัวเตาอบ ในกระบวนการผลิตชิป ความแม่นยำนี้ยังช่วยให้ขนาดของฟิล์มคงที่ และลดข้อบกพร่องได้อีกด้วย
สิ่งที่ควรระวัง เครื่องอบแบบ NIR ต้องมีมุมมองที่ชัดเจน และมีค่า emissivity ที่ควบคุมได้ หากฟิล์มมีส่วนประกอบที่สะท้อนแสง ก็จำเป็นต้องมีการปรับแต่งโครงสร้างของหลอดไฟ และมีการปรับแต่งค่าการอบให้เหมาะสม การติดตั้งในบริเวณใหม่นั้นทำได้ง่าย แต่การปรับปรุงเครื่องเดิมนั้นจำเป็นต้องมีระบบไฟฟ้าและระบบระบายอากาศที่เหมาะสม รวมถึงมีวิธีการกำจัดไอของตัวทำละลายด้วย ควรมีการทดสอบการใช้งานเพื่อหาจุดที่มีความร้อนสูง และปรับแต่งค่าการอบให้เหมาะสม หลังจากปรับแต่งเสร็จแล้ว เครื่องนี้ก็จะทำงานได้อย่างมีประสิทธิภาพเหมือนกับเครื่องอบชนิดอื่นๆ