Na linha de produção, o processo de secagem do fotoresist não é apenas mais um passo no processo de fabricação. É, na verdade, um ponto crítico no processo. Uma variação de 1°C durante o processamento do fotoresist já é suficiente para causar alterações nas dimensões dos componentes, gerar defeitos e fazer com que todo o lote seja descartado. Por isso, desenvolvemos o Controlador Digital de Secagem por Infravermelho, para eliminar esse risco térmico.
O que é importante, do ponto de vista técnico: O controlador utiliza um sensor NIR de circuito fechado, combinado com um emissor de resposta rápida, para manter a temperatura dentro de uma margem de ±0,1°C em toda a superfície da wafer. Isso permite obter perfis de secagem consistentes para o fotoresist. Além disso, o controle de rampa mantém a velocidade de evaporação do solvente constante, evitando assim problemas relacionados à formação de camadas inconsistentes na superfície da wafer.
O produto é compatível com ambientes limpos de classe 1–100, não gera partículas e tem baixo nível de emissão de gases. O sistema funciona 24/7, sem interrupções indesejadas, e sua vida útil supera 50.000 horas.
Por que funciona na litografia: Na litografia e no processamento de fotoresist, a qualidade do produto depende diretamente do controle térmico. Este controlador estabiliza a temperatura exatamente onde ela é mais importante – na própria wafer – tornando assim o controle das dimensões críticas mais preciso e previsível.
A repetibilidade do processo acelera os ciclos de qualificação e reduz a necessidade de retrabalho. Além disso, a eficiência energética diminui os custos operacionais por lote. O resultado são perfis consistentes, menos lotes descartados e um desempenho confiável, sem a necessidade de monitoramento contínuo.
Os detalhes que fazem com que funcione bem: A instalação é simples, mas o acoplamento térmico é crucial. O emissor precisa ser montado de forma a se adequar à geometria do suporte da wafer e à emissividade deste. Caso contrário, o sistema terá dificuldades para lidar com as reflexões e com os atrasos térmicos.
É necessário planejar adequadamente os cabos e o sistema de aterramento, de acordo com as especificações do equipamento. Além disso, é importante alinhar as configurações do controlador com as receitas de secagem do fotoresist. Se esses detalhes forem bem resolvidos, o dispositivo funcionará perfeitamente, dia após dia, turno após turno.