Perché utilizzare l infrarosso per la lavorazione dei wafer
Nel corso dei processi di produzione, lo spostamento termico non si manifesta soltanto sui grafici di controllo: in realtà, esso riduce...
Flusso di evaporazione per bump del wafer
Nel processo di “bumping” dei wafer, il residuo di flusso non rappresenta soltanto un problema estetico: è invece un fattore che influisce...
Soccorso per lampada a infrarossi per strumento a wafer
Nelle linee di litografia, anche un leggero cambiamento nella temperatura, pari a mezzo grado, può compromettere le dimensioni critiche dei...
Indurente per poliimide per la fabbricazione di wafer
Nelle fabbriche di produzione, la polimerizzazione del poliimide non rappresenta semplicemente un altro passaggio termico da affrontare. Si tratta...
Elemento riscaldante per ossidazione dei wafer
Nella fase di produzione dei wafer, l’efficienza dipende da fattori legati alla temperatura. Una variazione nella temperatura di cottura può causare...
Distanza di sicurezza per il riscaldamento del wafer
Nel processo di litografia, la distanza tra la lampada e il wafer non è un dettaglio trascurabile: si tratta invece di una parametrazione...
Lampada di riscaldamento per wafer di dispositivi di potenza
Sulla linea di produzione, una variazione di 1°C durante la soft bake modifica il profilo del photoresist. Se la hard bake è leggermente troppo...